半導体製造現場における「PFAS」有機フッ素化合物
自然分解せず、「永遠の化学物質」と呼ばれている有機フッ素化合物「PFAS」。
耐熱性、撥水性、撥油性などの優れた特性を有しており、そのため半導体製造において幅広い用途で使用されています。
耐熱性、撥水性、撥油性などの優れた特性を有しており、そのため半導体製造において幅広い用途で使用されています。
しかし、現在は環境への影響が懸念され、欧州を中心に規制強化が検討されています。
流機エンジニアリングの水処理装置「ECOクリーンLFP」は、PFAS（PFOS/PFOA/PFHxS等）の除去・浄化に効果的です。
半導体関連製造現場の排水処理にお困りでしたら、ぜひご相談ください。
PFASの除去・浄化に「ECOクリーンLFP」高精度吸着式水処理装置
粉末活性炭の能力を最大化し、PFASを効率的に除去します
- フッ素化合物PFAS(PFOS/PFOA/PFHxS等)の除去・浄化が可能
- 独自のプリーツフィルターに粉末活性炭を添着、吸着ろ過
- 液体から溶存物質を分離・固体化し、廃棄物量・コストを大幅に削減
- PFOA浄化における活性炭１gあたりの吸着容量は従来技術の16倍！
- 活性炭の添着、ろ過吸着、活性炭の洗浄剥離、再添着まで自動運転
- 既存設備に追加導入しやすい省スペース設計
- お問い合わせから設置工事までトータルサポート
詳しくはこちら
「ECOクリーンLFP」PFAS浄化導入事例
沖縄の湧水公園へ
PFAS浄化装置として導入
PFAS浄化装置として国内メーカーで初めての採用
沖縄県にある湧水公園の汚染水浄化。
設置前の室内試験では、汚染源域を想定した地下水 PFOA 濃度 100,000ng/L をろ過時間 10 秒で 2.5ng/L（実測値除去率99.997％）極限まで低減することが確認できました。
有機フッ素化合物「PFAS」浄化の解説動画
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